Установка STE ICP200E представляет собой автоматизированную станцию для проведения процессов плазмохимического травления с использованием фторной и хлорной химии в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда. Установка предназначена как для интенсивных исследований и разработок (R&D), так и для серийного выпуска продукции в составе производственно-технологической линии. В установках на платформе STE ICP200E полностью реализованы все современные особенности процессов контролируемого плазмохимического травления кремния и диэлектриков (SiO2, Si3N4) с использованием фторной химии, а также материалов A3B5 (GaAs, GaN), металлов и других материалов с использованием хлорной химии.

1. Производитель/страна – SemiTEq, Россия.
2. Год производства – 2024.
3. Технические характеристики

Реактор:

Высоковакуумная рабочая камера c шлюзовым устройством, предназначенная для проведения технологических процессов. Реактор представляет собой цилиндрическую камеру, выполненную из алюминиевого сплава. Конструкция рабочей камеры обеспечивает быстроту и удобство доступа к внутреннему объему камеры при обслуживании. Диапазон температуры стенок рабочей камеры – от 25°С до 75°С, обеспечиваемый интегрированным водяным нагревом стенок, для предотвращения осаждения продуктов реакции на стенках, повышения предпроцессного вакуума и воспроизводимости;

Источник индуктивно связанной плазмы ICP:

• соединен с ВЧ генератором мощностью не менее 2000 Вт, 13,56 МГц для создания низкотемпературной плазмы высокой плотности. С помощью планарной спиральной катушки ВЧ поле передается в разрядную камеру-реактор;
• источник включает автоматическую согласующую цепь;
• источник закреплен на фланце параллельно емкостному электроду;
• для обеспечения теплового баланса предусмотрено охлаждение водой;
• имеет центральное окно, оснащённое сменным сапфировым стеклом диаметром 18 мм, для обеспечения интерферометрического контроля процесса травления;

Емкостной алюминиевый электрод с зажимным механизмом. Поверхность рабочего столика окружена защитой от паразитной плазмы. Емкостной электрод имеет следующие характеристики:

• диаметр пластины-держателя – 228 мм;
• диаметр электрода – 230 мм;
• гелиевое охлаждение обратной стороны;
• динамический контроль температуры;
• температура электрода регулируется криочиллером, входящим в перечень поставки, в диапазоне от 0 до +80 °С;
• возможность работы с пластинами меньшего размера (2÷8 дюймов) и/или образцами произвольной формы с помощью адаптеров;
• емкостной электрод соединен с генератором смещения мощностью не менее 1000 Вт, 13,56 МГц через устройство согласования с возможностью измерения напряжения смещения.

Местонахождение в ЦКП – ТК ИФП СО РАН

Балансовая стоимость: 42 500 000 руб.