
Оптическая литография реализована в ЦКП на базе генератора изображения ЭМ-5189-01. Генератор изображения лазерный многоканальный ЭМ-5189-01 предназначен для непосредственного формирования топологических структур на полупроводниковых пластинах и изготовления промежуточных шаблонов при производстве БИС, СБИС и других изделий электронной техники.
Изображение формируется по принципу растрового сканирования.
- Марка — ЭМ-5189-01.
- Производитель/страна — «КБТЭМ-ОМО», Республика Беларусь, г. Минск.
- Технические характеристики:
- В системе экспонирования используется непрерывный ультрафиолетовый аргоновый (криптоновый) ионный лазер с длиной волны 350,7 нм. Мощность лазера 300 мВт. Модель SP-2060 (SP-2060/65) фирмы Spectra Phisics.
- Производительность при изготовлении топологии 150 мм2/мин.
- Размер рабочего поля 215×215 мм2.
- Минимальный формируемый размер 600 нм.
- Равномерность(однородность) критического размера ±40 нм.
- Погрешность стыковок полос ±40 нм.
- Неровность края топологического элемента ±40 нм.
- Погрешность совмещения ±70 нм.
- Местонахождение в ЦКП — Отделение микролитографии
- Год модернизации — 2012.
- Балансовая стоимость — 27900 тыс. руб.
- Предоставляемые услуги:
- Оптическая литография для непосредственного формирования топологических структур на полупроводниковых пластинах и изготовления промежуточных шаблонов при производстве БИС, СБИС и других изделий электронной техники.
- Используемые методики:
- Методика нанесения фоторезиста на различные полупроводниковые пластины.
- Методика последовательного совмещения слоев фотошаблонов после проявли резиста, травления пластины и нанесения металов.
- Методика взрывного нанескения металла через маску в резисте.