Оптическая литография реализована в ЦКП на базе генератора изображения ЭМ-5189-01. Генератор изображения лазерный многоканальный ЭМ-5189-01 предназначен для непосредственного формирования топологических структур на полупроводниковых пластинах и изготовления промежуточных шаблонов при производстве БИС, СБИС и других изделий электронной техники.

Изображение формируется по принципу растрового сканирования.

1. Марка — ЭМ-5189-01.
2. Производитель/страна — «КБТЭМ-ОМО», Республика Беларусь, г. Минск.
3. Технические характеристики:
   • В системе экспонирования используется непрерывный ультрафиолетовый аргоновый (криптоновый) ионный лазер с длиной волны 350,7 нм. Мощность лазера 300 мВт. Модель SP-2060 (SP-2060/65) фирмы Spectra Phisics.
   • Производительность при изготовлении топологии 150 мм²/мин.
   • Размер рабочего поля 215×215 мм².
   • Минимальный формируемый размер 600 нм.
   • Равномерность(однородность) критического размера ±40 нм.
   • Погрешность стыковок полос ±40 нм.
   • Неровность края топологического элемента ±40 нм.
   • Погрешность совмещения ±70 нм.
4. Местонахождение в ЦКП — Отделение микролитографии
5. Год модернизации — 2012.
6. Балансовая стоимость — 27900 тыс. руб.
7. Предоставляемые услуги:
   • Оптическая литография для непосредственного формирования топологических структур на полупроводниковых пластинах и изготовления промежуточных шаблонов при производстве БИС, СБИС и других изделий электронной техники.
8. Используемые методики:
   • Методика нанесения фоторезиста на различные полупроводниковые пластины.
   • Методика последовательного совмещения слоев фотошаблонов после проявли резиста, травления пластины и нанесения металов.
   • Методика взрывного нанескения металла через маску в резисте.