Электронный литограф представляет собой модернизированный сканирующий электронный микроскоп фирмы Zeiss с электронной пушкой Supra. Предназначен для нанолитографии с размерами от 20 нм, создании промежуточных шаблонов для оптической литографии и сканирования поверхности образцов с большим увеличением в автоматическом режиме.
- Марка — Raith-150.
- Производитель/страна — RAITH, Германия.
- Технические характеристики:
- Оснащен большой вакуумной камерой, позволяющей загружать образцы размером до 150 мм.
- Внутри камеры смонтирован роботизированный лазерный стол, позволяющий позиционировать образец размером до 150 мм с точностью до 20 нм.
- Оснащен генератором изображений, позволяющим также производить съемку поверхности образца.
- Литограф оснащен тремя системами автоматической корректировки фокуса:
- Корректировка при помощи пъезо-двигателей
- С использованием объективной линзы
- С использованием движения рабочего стола
- Характеристики электронной пушки:
- Ускоряющее напряжение — 100 - 30000 В
- Диаметр пучка — 2 нм при 20 кВ
- Время жизни катода — более 2000 часов
- Минимальный шаг — 2 нм
- Характеристики лазерного стола:
- Воспроизводимоть положения << 50 нм
- Точность позиционирования < 100 нм
- Точность совмещения < 100 нм
- Вакуумная система:
- Давление в рабочей камере < 1×10-6 Торр
- Давление в пушке< 1×10-9 Торр
- Местонахождение в ЦКП — Отделение нанолитографии и Отделение cканирующей электронной микроскопии, к.108.
- Год модернизации — 2009.
- Балансовая стоимость — 45841 тыс. руб.
- Предоставляемые услуги:
- Cоздание структур пониженной размерности для наноэлектроники и наномеханики на основе комплекса литографических методов, включающих электронную, ионно-лучевую и зондовую литографию.
- Проведение измерений линейных размеров элементов структур микро- и нанорельефа поверхности твердотельных материалов и биологических объектов в нанометровом диапазоне.
- Исследование морфологии и структуры поверхности твердотельных структур и оперативный контроль атомарных поверхностей методами сканирующей туннельной, атомно-силовой и электронной микроскопии.
- Используемые методики:
- Методика количественного морфологического анализа и измерений линейных размеров микрорельефа поверхности твердотельных структур с применением сканирующего электронного микроскопа.
- Методика проведения литографии, включая изготовление фотошаблонов, субмикронного диапазона с использованием электронно-лучевой литографии.
- Методика наноструктурирования, основанная на электронной литографии сфокусированным электронным пучком, на базе сканирующего электронного микроскопа.
