Состав отделения:

• Руководитель - в.н.с., д.ф.-м.н. Шкляев А.А., НОК НГУ, 8 913 001 0085, Этот адрес электронной почты защищён от спам-ботов. У вас должен быть включен JavaScript для просмотра.

Основное направление активности - исследования элементарных структурных процессов на поверхности полупроводников и металлов для создания наносистем и новых материалов с уникальными свойствами.

Отделение предоставляет следующие услуги:

• Исследование морфологии и структуры поверхности твердотельных структур и оперативный контроль атомарных поверхностей методами сканирующей туннельной, атомно-силовой и электронной микроскопии.
• Проведение измерений линейных размеров элементов структур микро- и нанорельефа поверхности твердотельных материалов и биологических объектов в нанометровом диапазоне.
• Наноструктурирование нелитографическими методами посредством in-situ управления процессами самоорганизации структуры поверхности кристаллов в сверхвысоковакууумных условиях.

Для проведения экспериментов в отделении разработаны и внедрены следующие методики:

• Методика измерения линейных размеров нанорельефа на атомно-чистой поверхности полупроводников методом СТМ в сверхвысоком вакууме.
• Методика получения изображения рельефа оксида на поверхности кремния методом СТМ в сверхвысоком вакууме.
• Методика создания и изучения полупроводниковых наноструктур на поверхности кремния методами эпитаксии в сверхвысоковакуумной камере СТМ.

Услуги предоставляются отделением с использованием следующего оборудования:

• Сверхвысоковакуумный туннельный сканирующий микроскоп STM VT OMICRON