Предназначен для обработки и создания микро- и нано-структур и приборов на их основе.
Многофункциональный комплекс плазмохимической обработки для создания сложных структур и устройств на их основе.
  1. Год модернизации — 2015.
  2. Балансовая стоимость — 44000 тыс. руб.
  3. Нормативная стоимость часа работы с учетом амортизации — 3700 руб.
  4. Нормативное (среднее) количество обработанных образцов в час — 1.

Комплекс состоит из двух установок:
1. Реактивное ионно-плазменное травление : РИПТ (RIE) для кремниевой линейки

1.1 Марка — PlasmalabSystem 100
1.2 Производитель/страна — Oxford Instruments Plasma Technologies, Англия.
1.3 Технические характеристики: 
13.56 MHz планарный реактор с катодной связью
охлаждаемые подложкодержатели,
газораспределительная система,
оптимизированная для RIE
быстрооткачиваемая вакуумная камера
режимы травления: RIE (РИПТ)/ PE (ПХТ) / ICP (ИСП)

2.  Объединяет два реактора.

Реактивное ионно-плазменное травление : РИПТ (RIE) для КРТ
2.1 Марка — PlasmalabSystem 100
2.2 Производитель/страна — Oxford Instruments Plasma Technologies, Англия.
2.3 Технические характеристики: 
1
3.56 MHz планарный реактор
с катодной связью
охлаждаемые подложкодержатели
газораспределительная система,
оптимизированная для RIE
быстрооткачиваемая вакуумная камера
режимы травления:
RIE (РИПТ)/ PE (ПХТ) / ICP (ИСП)

Реактор атомно-слоевого осаждения:
2.1 Марка: FlexAL
Описание: Используется метод поочередной подачи различных прекурсоров в газообразной форме. Реакция прекурсора с поверхностью является самолимитирующейся и толщина наносимой пленки контролируется с хорошей точностью. Один цикл подачи двух или более прекурсоров приводит к осаждению одного монослоя. Циклы осаждения повторяются многократно, что позволяет получить покрытие заданной толщины. Преимущества метода атомно-слоевого осаждения:  конформное (однородное по вертикальным и
горизонтальным поверхностям) осаждение на структуры с большим аспектным соотношением; точный контроль толщины получаемых покрытий путем задания необходимого числа циклов осаждения; однородное покрытие микроканалов; в процессе осаждения исключено образование наночастиц и кластеров, ухудшающих качество поверхности; широкий выбор получаемых покрытий.
2.2 Производитель/страна — Oxford Instruments Plasma Technologies, Англия.
2.3 Технические характеристики:
Программа управления PC
шлюзовая камера с ручной загрузкой
подложкодержатель под подложки 200 мм с прогревом до
400° C/ 550° C
полная совместимость с чистой комнатой