Электронный литограф представляет собой модернизированный сканирующий электронный микроскоп фирмы Zeiss с электронной пушкой Supra. Предназначен для нанолитографии с размерами от 20 нм, создании промежуточных шаблонов для оптической литографии и сканирования поверхности образцов с большим увеличением в автоматическом режиме.

  1. Марка — Raith-150.
  2. Производитель/страна — RAITH, Германия.
  3. Технические характеристики:
    • Оснащен большой вакуумной камерой, позволяющей загружать образцы размером до 150 мм.
    • Внутри камеры смонтирован роботизированный лазерный стол, позволяющий позиционировать образец размером до 150 мм с точностью до 20 нм.
    • Оснащен генератором изображений, позволяющим также производить съемку поверхности образца.
    • Литограф оснащен тремя системами автоматической корректировки фокуса:
      Raith-150
      • Корректировка при помощи пъезо-двигателей
      • С использованием объективной линзы
      • С использованием движения рабочего стола
    • Характеристики электронной пушки:
      • Ускоряющее напряжение — 100 - 30000 В
      • Диаметр пучка — 2 нм при 20 кВ
      • Время жизни катода — более 2000 часов
      • Минимальный шаг — 2 нм
    • Характеристики лазерного стола:
      • Воспроизводимоть положения << 50 нм
      • Точность позиционирования < 100 нм
      • Точность совмещения < 100 нм
    • Вакуумная система:
      • Давление в рабочей камере < 1×10-6 Торр
      • Давление в пушке< 1×10-9 Торр
  4. Местонахождение в ЦКПОтделение нанолитографии и Отделение cканирующей электронной микроскопии, к.108.
  5. Год модернизации — 2009.
  6. Балансовая стоимость — 45841 тыс. руб.
  7. Предоставляемые услуги:
    • Cоздание структур пониженной размерности для наноэлектроники и наномеханики на основе комплекса литографических методов, включающих электронную, ионно-лучевую и зондовую литографию.
    • Проведение измерений линейных размеров элементов структур микро- и нанорельефа поверхности твердотельных материалов и биологических объектов в нанометровом диапазоне.
    • Исследование морфологии и структуры поверхности твердотельных структур и оперативный контроль атомарных поверхностей методами сканирующей туннельной, атомно-силовой и электронной микроскопии.
  8. Используемые методики:
    • Методика количественного морфологического анализа и измерений линейных размеров микрорельефа поверхности твердотельных структур с применением сканирующего электронного микроскопа.
    • Методика проведения литографии, включая изготовление фотошаблонов, субмикронного диапазона с использованием электронно-лучевой литографии.
    • Методика наноструктурирования, основанная на электронной литографии сфокусированным электронным пучком, на базе сканирующего электронного микроскопа.