Характеристика
Вакуумный эллипсометрический комплекс предназначен для исследования оптических свойств тонкоплёночных структур в широком диапазоне температур, адсорбционно-десорбционных и других процессов, обусловленных взаимодействием атомарно чистой поверхности с газовой фазой. Комплекс состоит из быстродействующего лазерного эллипсометра, сопряженного с вакуумной камерой, оснащенной системой откачки, напуска газов, терморегулирования и контроля параметров.
|
Основные технические характеристики прибора: | |
| Двухступенчатая система откачки, остаточное давление, не хуже | 10-7 Торр |
| Возможность напуска инертных газов | имеется |
| Температурный диапазон | 20 - 500С |
| Длина волны зондирующего излучения | 633 нм |
| Погрешность определения элементов матрицы Мюллера, не хуже | 0,002 |
| Время единичного измерения эллипсометрических параметров | 1 мс |
| Диаметр зондирующего пятна на образце, не более | 3 мм |
| Размеры | 800×900×1200 мм |
| Вес, не более | 140 кг |
| Питание | 220 В/50Гц |
Общий вид прибора
Технико – экономическое преимущество
Разработанный комплекс позволяет проводить эллипсометрические измерения образцов в условиях вакуума или в инертных газах, что существенно расширяет круг прикладных и исследовательских задач. Встроенный нагреватель делает возможным проведение быстропротекающих температурно-зависимых или температурно-индуцированных процессов. Высокое быстродействие аналитической части комплекса и удобное программное обеспечение позволяют накапливать и обрабатывать большой объём информации и отображать её в реальном времени. На сегодняшний день отечественной и зарубежной промышленностью такое оборудование не выпускается.
Области применения
Научные учреждения, ВУЗы, а также предприятия-производители, занимающиеся научно-исследовательскими задачами в области создания современных материалов для нанотехнологий. Солнечные элементы, пористые пленочные структуры, объекты нелинейной оптики, кристаллофизика, геохимия, бионанотехнологии и т.д.
