| ||
|
В 1990 году Институт стал головным в Объединенном институте физики полупроводников (ОИФП) в составе Института физики полупроводников и Конструкторско-технологического Института прикладной микроэлектроники (КТИПМ) СО РАН. В 1996 году в состав ОИФП был введен Институт сенсорной микроэлектроники (ИСМЭ) СО РАН (г.Омск).
За время своего существования Институт физики полупроводников превратился в один из ведущих в России научных центров в области фундаментальных и прикладных исследований по физике полупроводников, физике твердого тела, микро- и наноэлектроники. За это время 13 сотрудников Института удостоены звания лауреата Государственных премий СССР и Государственных премий Российской Федерации.
В Институте работают около 800 сотрудников, в том числе 200 научных сотрудников, среди них 3 академика, 4 члена-корреспондента РАН, 49 докторов и 131 кандидат наук.
Институт размещается в трех корпусах и располагает общей площадью 35.735 квадратных метров, в том числе, располагает уникальным термостатированным корпусом, в котором сосредоточено оборудование для современных технологических процессов получения и исследования полупроводниковых структур для микро-, микрофото-, наноэлектроники и акусто-электроники.