Е.Б.Ольшанецкий, Д.Х.Квон, Н.Н.Михайлов, С.А.Дворецкий, Ю.Г.Сидоров, А.Л.Асеев
Лаборатория технологии эпитаксии из молекулярных пучков соединений А2В6.
Лаборатория физики и технологии структур на основе полупроводников А3В5
Впервые выращены структуры с квантовыми ямами CdTe/HgTe/CdTe с толщинами слоев HgTe 16 нм и 21 нм. Двумерный электронный газ в первом случае
имел концентрацию 2,2×1011 см-2 и подвижность 2,5×105см2/В×с, а во втором соответственно 1,4×1011 см-2 и 1,5×105см2/В×с.

Рис. Продольное и холловское магнетосопротивление в зависимости от величины магнитного поля для температур от 0,3 до 3 К. На вставке показана схема слоев в образце. Увеличено показаны области переходов с плато на плато (2-1)
Полученные значения подвижности являются рекордными для соответствующих концентраций электронов и свидетельствуют о высоком качестве выращенных структур. На этих структурах впервые
наблюдался индуцированный магнитным полем квантовый холловский переход
жидкость-изолятор и переход с плато на плато в высокоподвижном двумерном электронном газе в квантовых ямах HgТe (см. Рис.).