Кол-во электрически активных
фоновых примесей, ат/см3 | <1x1012 | <1x1012 |
Концентрация атомов, ат/см3: -кислорода -углерода -тяжелых и щелочных металлов | 2-11x1017 <1x1016 <5x1012 |
- <1x1016 1x1012 |
Удельное электросопротивление, омxсм | 0,05 - 200 | более 800 |
Разброс У.Э.С. по диаметру слитка,% | 3 - 5 |
3 |
Диаметр слитка, мм | 203 | 152 |
 |
|
Разработка технологии выращивания и организация малотоннажного производства высокосовершенных слитков кремния диаметром до 150 мм методом бестигельной зонной плавки для изготовления элементов силовой электроники и спецприменения (детекторы ядерного излучения, фотоприемники).
Исполнитель - ИФП СО РАН
Требуется дополнительное финансирование в объеме - 30 млн. руб.
Срок окупаемости - 5 лет. |
| |