События

В понедельник, 20 октября 2025 г., в 15-00
в актовом зале АК состоится Заседание Ученого совета ИФП СО РАН.
В понедельник, 2 июня 2025 г., в 15-00
в актовом зале АК состоится Заседание Ученого совета ИФП СО РАН.
В понедельник, 3 марта 2025 г., в 15-00
в актовом зале АК состоится Заседание Ученого совета ИФП СО РАН.
В понедельник, 10 февраля, в 15-00
в актовом зале АК состоится Заседание Ученого совета ИФП СО РАН.

Во вторник, 24 декабря, в 15 часов в конференц-зале Административного корпуса состоятся защиты диссертаций...

В понедельник, 18 ноября, в 15-00
в актовом зале АК состоится Заседание Ученого совета ИФП СО РАН.

Объявления

В четверг, 09.10.2025 в 10-30
в конференц-зале ЛТК состоится
Семинар лаборатории №1: "Флуктуационный кондктанс двумерного полуметалла". Докладчик: З.Д. Квон

ИФП СО РАН объявляет дополнительный приём в аспирантуру по образовательным программам подготовки научных и научно-педагогических кадров в аспирантуре очной формы обучения.

Во вторник 26.08.2025 в 15-00
в конференц-зал Административного корпуса состоится Институтский семинар
Докладчик: Пономарев Сергей Артемьевич
«Структурные и морфологические трансформации слоистых халькогенидов металлов при эпитаксиальном росте»

В понедельник, 18.08.2025 в 15-00
в конференц-зал Административного корпуса состоится Институтский семинар
Докладчик:к.ф.-м.н., доцент Сколковского института науки и технологий, руководитель Лаборатории квантовых алгоритмов машинного обучения и оптимизации Палюлин Владимир Владимирович.
«Модели двух состояний для описания диффузии экситонов в низкоразмерных полупроводниках»

В среду, 25.06.2025 в 15-00
в конференц-зал Административного корпуса состоится Институтский семинар
Докладчик: Майдэбура Ян Евгеньевич
«Механизмы формирования квантовых точек GaN методом аммиачной молекулярно-лучевой эпитаксии»

Важное







Конкурс на получение грантов РНФ по мероприятию «Проведение фундаментальных научных исследований и поисковых научных исследований отдельными научными группами»
Заявки принимаются до 13.11.2025
Извещение
Конкурсная документация
Подробнее на сайте фонда

Другие конкурсы...

Поступление в образовательные организации высшего образования

https://pos.gosuslugi.ru/lkp/polls/477289/

СОТРУДНИКИ

Емельянов Евгений Александрович

инженер

тел. 333-32-86

201 ЛТК

e-mail:

Окончил Новосибирский Государственный Технический Университет по направлению «Электроника и микроэлектроника».

С 2005 начал научную практику в Институте физики полупроводников в лаб.№16.

С 2008 по 2011 год обучался в аспирантуре института физики полупроводников по специальности 01.04.07 «Физика конденсированного состояния». Тема работы: «МЛЭ твердых растворов соединений AIIIBV: встраивание атомов мышьяка и фосфора из различных молекулярных форм».

В настоящее время работает в лаборатории № 17.

Область научных интересов:

  • МЛЭ A3B5, твёрдые растворы A3B5, перспективные материалы и технологии.

Перечень основных работ:

  1. M. A. Putyato, V. V. Preobrazhenskii, B. R. Semyagin, D. F. Fёklin, N. A. Pakhanov, E. A. Emelianov and S. I. Chikichev, A valved cracking phosphorus beam source using InP thermal decomposition and its application to MBE growth, Semiconductor Science and Technology volume 24 №5 055015 2009.
  2. Е.А. Емельянов, Д.Ф. Феклин, А.В. Васев, М.А. Путято, Б.Р. Семягин, А.П. Василенко, О.П. Пчеляков, В.В. Преображенский, Формирование методом МЛЭ напряженных короткопериодных сверхрешеток InAs/GaSb II-типа для фотоприемников ИК диапазона, Журнал «Автометрия» 2011, Т. 47, № 5 – стр. 43 -51.
  3. Е.А. Емельянов, Д.Ф. Феклин, А.В. Васев, М.А. Путято, Б.Р. Семягин, А.К. Гутаковский, А.П. Василенко, В.А. Селезнёв, Д.С. Абрамкин, О.П. Пчеляков, В.В. Преображенский, N. Zhicuan. N. Haiqiao, Гетероэпитаксия плёнок AIIIBV на вицинальных подложках Si(001), Журнал «Автометрия» 2014, Т. 50, № 3 – стр. 13 -22.
  4. Weiguo Sun , Huitao Fan, Zhenyu Peng, Liang Zhang, Xiaolei Zhang, Lei Zhang, Zhengxiong Lu, Junjie Si, E. Emelyanov, M. Putyato, B. Semyagin, O. Pchelyakov, V. Preobrazhenskii, Photodiode properties of molecular beam epitaxial InSb on a heavily doped substrate, Infrared Physics & Technology 62 (2014) 143–146.