Взаимодействие экситонов в КТ с поверхностными плазмонами, локализованными в металлических частицах, может значительно повысить эффективность излучения КТ...

Взаимодействие экситонов в КТ с поверхностными плазмонами, локализованными в металлических частицах, может значительно повысить эффективность излучения КТ. Для получения металлических частиц нами предложено использовать начальную стадию нанокапельной эпитаксии – массив капель металла III группы на подложке. При этом распределение упругих напряжений приведёт к самосовмещению капли и КТ, и расстояние в паре будет определяться толщиной буферного слоя. Важным преимуществом такого подхода является его совместимость с МЛЭ технологией.

В данной работе проведено численное исследование поверхностного плазмонного резонанса (ППР) в металлических нанокаплях, используя приближение дискретных диполей. Были изучены зависимости ППР в каплях от материала и размера. Показано, что положение резонанса линейно зависит от размера капли и при изменении радиуса от 60 до 210 нм резонансный пик смещается от 0.5 до 1.2 мкм. Для тонкой постростовой подстройки резонанса предложено использовать плазменное окисление. Проведено моделирование двухслойных систем, состоящих из капли с оксидной плёнкой, и получены оценки величины сдвига линии как функции толщины оксидной плёнки. Таким образом, положением ППР в металлических каплях можно управлять для совмещения с резонансом КТ.

Работа представлена на XШ Международной школе-семинаре по люминесценции и лазерной физике, 16-22 июля 2012, Иркутск. А.А.Лямкина.