Назначение

Исследование распределения физических свойств по площади образца

Характеристики

• Длина волны света 633 нм;
• Область сканирования 150х150 мм;
• Локальность измерений 10 мкм.

Назначение

• измерение спектров оптических постоянных;
• исследование многослойных структур.

Характеристики

• Спектральный диапазон 250 – 1000 нм;
• Спектральное разрешение 3 нм;
• USB соединение с компьютером;
• Программное обеспечение с библиотекой спектров оптических постоянных.

Назначение

• исследования ex-situ слоистых структур,
• исследования быстропротекающих процессов.

Характеристики

• Длина волны света – 633 нм;
• Время измерения – 1 мс;
• Чувствительность:
  по толщине – 0.1 А;
  по показателю преломления – до 0.001
• USB соединение с компьютером.

Предназначен

для диагностики поверхности шероховатых, неоднородных и анизотропных материалов методом полной эллипсометрии.

Область применения

Измерение анизотропных и рассеивающих образцов, например, пористый кремний, солнечные элементы.

Основные технические характеристики

• Погрешность определения элементов матрицы Мюллера не хуже 0,002
• Время полного измерения матрицы 5 сек
• Диаметр зондирующего пятна на образце 3 мм.

Назначение

Характеризация поверхности методом обзорной эллипсометрии

Технические характеристики

• спектральный диапазон, нм - 370-950;
• разрешение по площади, мкм – 10;
• чувствительность к изменению толщины слоя, нм - 0.1;
• время единичного измерения 30 мс/кадр;
• максимальное разрешение, пикселей - 1280×1024;
• размер пикселя, мкм – 5,2×5,2;
• размер зондируемой области, мм – 10×20;

Позволяет решать задачи

1. проводить in situ исследование кинетики роста оксидных покрытий в широком диапазоне концентраций и температур электролита;
2. в процессе роста осуществлять технологический экспресс-контроль оптических свойств, толщин и качества пленок в широком диапазоне толщин (10-2000 нм) растущего оксида.