Лаборатория физико-технологических основ создания приборов на основе соединений А₂В₆

Комплекс плазмохимической обработки Oxford Plasmalab, включающий модуль атомно-слоевого осаждения (ALD) и модуль индуктивно-связанной плазмы (ICP). Модуль ALD предназначен для выращивания атомарных слоев различных материалов при недостижимых для других методов низких температурах. В то же время выращенные таким методом пленки имеют высокое структурное совершенство. Модуль ICP позволяет не только выращивать пленки различных материалов, включая наиболее распространенные SiO2 и SiNx, но и проводить плазмохимическое травление различных материалов, включая диэлектрики, металлы и полупроводники.

Установка ионной имплантации IMC200 используется для введения малых количеств ионов в выбранный материал для изменения электрических, механических и/или магнитных свойств целевого материала. Основным применением данной установки в нашей лаборатории является создание p-n или n-p переходов за счет ионной имплантации соответствующей примеси в материал КРТ.

Установка гибридной сборки методом «перевернутого кристалла» FC150 для гибридизации кремниевой схемы считывания и массива фотодиодов. Гибридизация проводится в два этапа: вначале соединяемые детали располагаются друг напротив друга, после чего производится точное совмещение микроконтактов на их поверхностях. На втором этапе детали сдавливаются, причем давление и температура меняются по заданному алгоритму. Операция гибридизации является одной из наиболее критических при изготовлении фотоприемного устройства, т.к. микроконтакты соединяемых элементов имеют диаметр около 10 мкм и высоту около 6мкм, и малейшие отклонения могут приводить к не присоединенным или поврежденным элементам. Данная установка позволяет обеспечить послесборочную точность соединения 3 мкм и плоскостность компонент 20 мкрад.

Криогенная зондовая станция Cascade PMC200, предназначенная для тестирования как отдельных кремниевых схем считывания (КСС) сигнала, так и гибридных сборок КСС с фотоприемным устройством (ФПУ). Установка представляет собой вакуумную камеру, внутри которой располагается охлаждаемый столик, на котором закрепляются исследуемые образцы. Напротив столика устанавливается зондовая головка конфигурации, соответствующей исследуемой структуре. После охлаждения зондовая головка прижимается к контактным площадкам КСС или ФПУ, после чего на зонды подаются управляющие сигналы с внешней электроники. В результате становится возможным не только проверка работоспособности тестируемого устройства, но и измерения его параметров. Через имеющееся в верхней части установки окно можно осуществлять засветку образцов ИК излучением требуемой конфигурации.

Установка измерения вольт-амперных характеристик отдельных фотодиодов.

Комплекс оборудования для фотолитографии, включающий установки нанесения, проявления и снятия фоторезиста. Это оборудование является универсальным и используется на всех этапах изготовления фотоприемных устройств: начиная от нанесения диэлектриков и заканчивая изготовлением микроконтактов.

Установки напыления тонких и толстых слоев металла, как путем термического, так и электронно-лучевого испарения. Основное назначение данного оборудования – изготовление контактов к ячейкам КСС, изготовление индиевых микроконтактов, а также нанесение металлизированного рисунка на поверхность изготавливаемых устройств.