ОБОРУДОВАНИЕ
Лаборатория оснащена технологическим и измерительным оборудованием, позволяющим разрабатывать, изготавливать и исследовать структуры и приборы на кремниевых пластинах диаметром 76 и 100 мм. Основное оборудование:
Установки контактной и проекционной фотолитографии
Системы и приспособления для жидкостной химической обработки пластин кремния
Установки нанесения, тепловой обработки и удаления фоторезиста
Диффузионные печи, печи термического отжига и печи синтеза пленок в реакторе пониженного давления
Установки магнетронного и термического напыления пленок алюминия, индия, титана и других пленок
Установки с емкостной и индуктивно-связанной плазмой для плазмохимического и реактивно-ионного травления и осаждения различных пленок
Микротоковый источник ионов с энергией однозарядных ионов от 10 до 400 кэВ ( до 800 кэВ при облучении двухзарядными ионами) с возможностью облучения в диапазоне температур 77 – 1000 К)
Комплекс измерительного оборудования для контроля технологии и электрических параметров полупроводниковых структур и приборов