МЕТОДЫ И ОБОРУДОВАНИЕ
Оборудование
В лаборатории имеется 15 исследовательских и технологических установок, предназначенных для изготовления фотоэлектронных вакуумно-полупроводниковых приборов на основе полупроводниковых фотокатодов с отрицательным электронным сродством и изучения атомных и электронных явлений в этих фотокатодах. В лаборатории также имеется мастерская, оснащенная токарным, сверлильным и фрезерным станками.
Установка для исследования свойств атомарно-чистых поверхностей ADES-500 методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, дифракции медленных электронов и спектроскопии энергетических потерь электронов производства фирмы «VG Scientific», Великобритания.
Сверхвысоковакуумная установка для изготовления фотоэлектронных вакуумно-полупроводниковых приборов методом «переноса», изготовлена в ИФП СО РАН.
Методы
В лаборатории используются следующие основные методы:
получение атомарно-чистых поверхностей полупроводников A3B5;
получение атомарно-гладкой поверхности GaAs;
анализ энергетических распределений фотоэлектронов, эмитированных полупроводниковыми фотокатодами при криогенных температурах;
изучение структуры и состава поверхностей полупроводников методами дифракции медленных электронов, рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и спектроскопии энергетических потерь электронов;
изготовление методом «переноса» фотоэлектронных вакуумно-полупроводниковых приборов на основе полупроводниковых фотокатодов с отрицательным электронным сродством.